评估晶片与静电吸盘之间的接触.pdfVIP

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2023-05-13 发布于四川
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评估晶片与静电吸盘之间的接触.pdf

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一种方法、非瞬态计算机可读介质和设备。该方法可包括：(a)引入在静电吸盘的负极的绝对值与静电吸盘的正极的绝对值之间的电压差，该引入在晶片由静电吸盘支撑并且被静电吸盘的一个或多个导电接触销接触时发生；(b)在开始电压差的引入之后的不同时间点处，由包括感测元件的静电传感器监测位于晶片的正面的测量点处的电荷，以提供监测结果；以及(c)基于监测结果来确定晶片与静电吸盘之间的接触的电参数。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114624272 A (43)申请公布日 2022.06.14 (21)申请号 202111493567.3 H01L 21/683 (2006.01) (22)申请日 2021.12