一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备.pdfVIP

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2023-05-13 发布于四川
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一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备.pdf

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本申请提供了一种曝光设备的物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备，该方法包括：利用传感器检测第一投影光斑的能量值，确定处于第一投影光斑范围内的物镜光轴的基准位置；利用传感器检测第二投影光斑的能量值，确定处于第二投影光斑范围内的目标位置；基于目标位置，利用搜索算法确定处于第二投影光斑范围内的物镜光轴的偏移位置；确定偏移位置相对于基准位置的偏移距离，利用偏移距离确定单独使用第二掩模版时物镜光轴的位置。通过采用上述物镜光轴位置确定方法、装置及电子设备，解决了在测量物镜光轴位置时，因每次都使用工装掩模版进

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114637171 A (43)申请公布日 2022.06.17 (21)申请号 202210237477.6 (22)申请日 2022.03.11 (71)申请人北京半导体专用设备研究所（中国