一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达.pdfVIP

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2023-05-14 发布于北京
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一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达.pdf

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本申请公开一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达，其中方法包括：获取目标刻蚀深度在光信号的中心波长下对应的目标耦合长度比值，所述目标刻蚀深度为在多个刻蚀深度中选取的对波导进行刻蚀的任一度量值；当所述目标耦合长度比值为比值集合中数值最小的耦合长度比值时，将所述目标刻蚀深度确定为对波导进行刻蚀处理的波导刻蚀深度；所述比值集合包括多个刻蚀深度中各刻蚀深度对应的耦合长度比值，所述耦合长度比值为通过各刻蚀深度对应的光折射率以及所述光折射率随所述中心波长的偏移变化的敏感程度值得到的。采用本申请，可以

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114698384 A (43)申请公布日 2022.07.01 (21)申请号 202080005429.3 (74)专利代理机构北京恒博知识产权代理有限