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本发明涉及抛光工艺技术领域，具体涉及一种小磨头抛光石英的工艺方法。本发明公开了一种小磨头抛光石英的工艺方法，为了解决小磨头抛光时光洁度和粗糙度的问题，本发明提供的小磨头抛光石英的工艺方法，采用分阶段性的抛光方法，在控制光洁度和粗糙度的同时也满足了抛光时去除量的要求。工艺方法包括以下步骤：首先，使用大粒径氧化铈抛光液进行面形修整，控制抛光压力为：0.08MPa‑0.1MPa；之后，使用小粒径氧化铈抛光液进行初步光洁度修整，控制抛光压力为：0.04MPa‑0.06MPa；最后，使用硅溶胶抛光液进行最
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116100376 A
(43)申请公布日 2023.05.12
(21)申请号 202310154164.9
(22)申请日 2023.02.23
(71)申请人 成都超纯应用材料有限责任公司
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