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一种极紫外源、改善不对称沉积的方法、及辐射源,控制系统包含数个压力感测器,每个压力感测器侦测数个动态气锁喷嘴控制区的相应动态气锁分嘴控制区中的压力。每个动态气锁喷嘴控制区包含一或多个动态气锁喷嘴。此控制系统包含数个质量流动控制器。数个质量流动控制器的每个质量流动控制器控制数个动态气锁喷嘴控制区的相应动态气锁跟嘴控制区中的流速。此控制系统包含控制器,以根据数个动态气锁喷嘴控制区的动态气锁控制区中的数个压力感测器所侦测的压力,选择性地使数个质量流动控制器的一或多个质量流动控制器调整数个动态气锁喷嘴控
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114698216 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202210089458.3 G03F 7/20 (2006.01)
(22)申请日 2022.01.2
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