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本发明提供一种填充单元的版图设计方法，提供不同的第一、二标准单元，第一、二标准单元分别由沿基准线对称的第三、四标准单元和第五、六标准单元组成，第一、二标准单元分别在基准线处的版图形状相同；设计第三标准单元，第三标准单元的版图与沿基准线相拼接的第三、六标准单元形状相同；在第一、二标准单元间插入第三标准单元。本发明实现一套标准单元库适用两种设计标准平台，提高了开发效率，节约开发成本，优化了标准单元库的设计开发流程。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114692549 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202210235437.8
(22)申请日 2022.03.11
(71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司
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