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- 2023-05-14 发布于四川
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决定方法、曝光方法、曝光装置以及物品制造方法,决定用于接合曝光的关于基板的第1拍摄区及第2拍摄区的对位的校正量,接合曝光对第1拍摄区曝光形成第1像,对与第1拍摄区的一部分重复的第2拍摄区曝光形成第2像,得到叠接第1像和第2像的像,求出用于上下层的重叠的重叠标志间的位置偏移量即第1位置偏移量,求出用于第1拍摄区和第2拍摄区的对位的接合位置测量标志间的位置偏移量即第2位置偏移量,将第1位置偏移量加上预定比例的第2位置偏移量的位置偏移量决定为第1拍摄区和第2拍摄区重复的接合区域中的第1像的校正量,将从
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111338186 A
(43)申请公布日
2020.06.26
(21)申请号 20191
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