信息处理方法、光刻装置、存储介质及物品制造方法.pdfVIP

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2023-05-15 发布于北京
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信息处理方法、光刻装置、存储介质及物品制造方法.pdf

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本发明涉及信息处理方法、光刻装置、存储介质及物品制造方法，有利于提高对齐精度。所述信息处理方法包括：获取步骤，获取包括多个曝光区域的对象部位；以及选择步骤，在所述多个曝光区域中，将与分割位置对应的曝光区域选择为用于使基板进行位置对准的样本曝光区域，所述分割位置用于将所述对象部位的外周以长度为基准来均等分割为预定个数。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116107171 A (43)申请公布日 2023.05.12 (21)申请号 202211050675.8 (22)申请日 2022.08.29 (30)优先权数据 2021-183447 202