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本发明公开了一种MicroMini‑LED的架构及其制造方法,包括SiO2层,其所述SiO2层的底部设置有Gate栅极层,所述SiO2层的顶部设置有一层石墨烯层,所述石墨烯层的一端设置有SourceDrain电极和N型电极,所述石墨烯层的顶部设置有一层N型GaN层,且N型GaN层延伸至N型电极上,SourceDrain电极的外侧设置有一层PMMA膜层,且PMMA膜层延伸至SourceDrain电极与N型电极之间的石墨烯层上,本发明一种MicroMini‑LED的架构及其制造方法,在溢流
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114725154 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202210510057.0
(22)申请日 2022.05.11
(71)申请人 福建华佳彩有限公司
地址 3511
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