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- 2023-05-15 发布于四川
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本发明公开了一种荧光聚合物的合成及其应用，至少包括以下步骤：S1：荧光单体B的合成；S2：荧光聚合物的合成。荧光单体B的合成包括WL‑2001的合成、WL‑2002的合成、WL‑2003的合成，以特定的成分配比结合特定的工艺，使得制备出的单体具有优异的荧光强度和稳定性，受紫外光区的干扰较小，且收率较高；以特定比例的荧光单体B、羧基类单体、磺酸基单体在特定工艺条件下共聚得到的荧光聚合物在异常水质的抗干扰效果较好，同时本身具有优异的阻垢效果，其阻垢性能与S‑700相当，而且其浓度与荧光强度的线性关系
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114716600 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202110349718.1
(22)申请日 2021.03.31
(71)申请人 上海未来企业股份有
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