1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种处理半导体激光器的方法.pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约1.23万字
  • 约 11页
  • 2023-05-15 发布于四川
  • 举报

一种处理半导体激光器的方法.pdf

    本发明公开了一种处理半导体激光器的方法，该方法包括：在半导体激光器的制备过程中，利用预设辐照源对半导体激光器进行辐照处理，以提高所述半导体激光器的调制带宽，其中，所述辐照源为粒子辐照源。通过在半导体激光器的制备过程中，利用预设辐照源对半导体激光器进行辐照处理，从而实现在不影响半导体激光器其他性能的情况下，以更为简单和低成本的方法，提高半导体激光器的调制带宽，有利于优化半导体激光器的动态性能。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114724937 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202110008867.1 (22)申请日 2021.01.05 (71)申请人 中国科学院微电子研究所 地址 10

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >