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本发明提供一种薄膜电阻结构,包括从下往上依次叠置的衬底、N型层、噪声抑制层、介质层及电阻层,其中,所述噪声抑制层包括在水平方向上交替排列的N型掺杂层及P型掺杂层。本发明的薄膜电阻结构主要利用噪声抑制层中的交替排列的N型掺杂层及P型掺杂层形成的背靠背双极管结构,在PN结反向偏置时空间电荷区增大了电阻,从而抑制阱区的电势波动或衬底噪声对上层电阻信号传输的影响,提高器件性能的稳定性和可靠性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115831941 A
(43)申请公布日 2023.03.21
(21)申请号 202310092034.7
(22)申请日 2023.02.10
(71)申请人 微龛(广州)半导体
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