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- 2023-05-15 发布于四川
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本发明公开了一种等离子体密度控制系统及方法，包括离子源、反应腔室、挡片机构和法拉第杯组；法拉第杯组设在与屏栅正对应的反应腔室壁面上，包括法拉第杯安装架和至少N个法拉第杯；N个法拉第杯与屏栅上N组屏栅环状孔的位置相对应；挡片机构包括驱动装置控制器和至少两组挡片组件；每组挡片组件均包括若干个挡片和挡片驱动装置；若干个挡片均沿放电腔尾端周向均匀布设；每个挡片均能旋转伸入放电腔内，遮挡进入屏栅环状孔的等离子体；挡片组件间的挡片交替布设，挡片组件间的挡片形状不同。本发明能对离子源引出的离子束密度进行测量，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114724914 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202110002170.3
(22)申请日 2021.01.04
(71)申请人 江苏鲁汶仪器有限公司
地址 221
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