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一种构建知识图谱用于半导体制造良率分析的方法及装置.pdfVIP

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  • 2023-05-17 发布于四川
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一种构建知识图谱用于半导体制造良率分析的方法及装置.pdf

    本发明提供一种构建知识图谱用于半导体制造良率分析的方法，包括：获取与半导体制造相关的目标数据；对所述目标数据进行知识抽取，获得与半导体制造相关的实体，以及其间的关系；以所述实体为节点，以关系为连接边，构建半导体制造相关的目标知识图谱；所述目标知识图谱用于对半导体良率进行分析和/或确定半导体良率对应的决策。本发明通过构建的目标知识图谱，实现了半导体制造领域中半导体良率分析和/或提升决策的智能化。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114818275 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210346505.8 (22)申请日 2022.04.02 (71)申请人 筏渡（上海）科技有限公司 地址 2

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