移除薄膜中的杂质的方法以及衬底处理设备.pdfVIP

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2023-05-17 发布于四川
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移除薄膜中的杂质的方法以及衬底处理设备.pdf

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本发明涉及一种移除薄膜中的杂质的方法以及一种衬底处理设备。移除薄膜中的杂质的方法包括以下步骤：在工艺腔室中提供上面形成有薄膜的衬底；将与薄膜中所包含的杂质发生反应以及结合的第一气体供应到工艺腔室中；在停止第一气体的供应之后，通过对工艺腔室的内部进行减压来排出杂质与第一气体的结合产物；通过将不同于第一气体的第二气体供应到工艺腔室中来将薄膜固化；以及停止第二气体的供应且将剩余的第二气体从工艺腔室的内部排出。本发明有效地移除薄膜中所包含的杂质。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114823417 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210058729.9 (22)申请日 2022.01.17 (30)优先权数据