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- 2023-05-17 发布于四川
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本公开提供一种应用于超分辨光刻的像素化光学邻近效应修正方法，包括：S1，根据目标图形得到像素化的初始掩模数据；S2，根据初始掩模数据和超分辨光刻的条件计算光刻胶输出图形与目标图形的成像误差；S3，对初始掩模数据进行编码，初始化超分辨光刻的结构参数、基于协方差矩阵自适应更新策略算法的参数；S4，利用基于协方差矩阵自适应更新策略算法进行迭代运算，直至获得满足预设条件的掩模数据，完成光学邻近效应的修正。本公开还提供一种将像素化光学邻近效应修正应用于超分辨光刻的方法、像素化光学邻近效应修正系统、电子设备
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114815496 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210372026.3
(22)申请日 2022.04.08
(71)申请人 中国科学院光电技术研究所
地址 6
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