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- 2023-05-17 发布于四川
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本申请公开了一种掩膜板异物清除方法。所述掩膜板异物清除方法包括如下步骤:去除掩模板上附着的有机物的步骤;去除异物的步骤;其中,采用碱的醇溶液去除掩模板上残留的异物;干燥掩模板的步骤。本申请的掩膜板异物清除方法,可以增强对掩膜板的清洗能力,以及减少掩膜板清洗后残留物。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114798587 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210363375.9
(22)申请日 2022.04.07
(71)申请人 武汉华星光电半导体
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