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- 2023-05-17 发布于四川
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本发明公开一种等离子体刻蚀设备，其工艺腔室中包括电极底座、电极和内衬；该内衬的筒形侧部覆于所述工艺腔室的内侧壁面，且两者之间设置有绝缘套筒，该内衬的环形底部可与电极底座相接；环形底部的下表面具有内衬安装部，电极底座的上表面相应设置有可与内衬安装部适配的第一底座安装部和第二底座安装部，并配置为：内衬安装部与第一底座安装部适配时，环形底部的下表面与电极底座的上表面贴合；内衬安装部与第二底座安装部适配时，环形底部的下表面位于电极底座的上表面之间具有预定间距，且环形底部与电极之间设置有可拆卸连接的电性连
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116013755 A
(43)申请公布日 2023.04.25
(21)申请号 202111227060.3
(22)申请日 2021.10.21
(71)申请人 北京鲁汶半导体科技有限公司
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