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一种激光退火机台退火温度的监控方法.pdfVIP

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  • 2023-05-17 发布于四川
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一种激光退火机台退火温度的监控方法.pdf

    本发明提供一种激光退火机台退火温度的监控方法，在待测晶圆上形成零标记层图形；对待测晶圆表面进行离子注入和激光退火工艺；量测待测晶圆在Z方向上的电阻，获得电阻测量值；在待测晶圆上形成套刻层图形；量测零标记层图形和套刻层图形之间的套刻精度，获得X方向值和Y方向值；根据量测的X方向值、Y方向值以及电阻测量值，调整激光退火机台的退火温度。本发明实现了对激光退火机台三维方向的监控，可以提前预测片内激光退火温度波动对后续工艺光刻层套刻精度的影响，进而及时调整激光退火温度的均一性，改善产品的套刻精度，提高产品

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114823404 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210235403.9 (22)申请日 2022.03.11 (71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司 地址

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