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本发明属于微纳光学、超材料技术领域，手性纳米结构的手性响应由其结构和材料特性决定，其结构的辐射损耗和非辐射损耗都是确定的，缺乏可调节性和主动调控的手段，本发明提供一种手性超表面和分子激子强耦合最大化圆二色性参数优化方法及结构，手性超表面的手性模式和激子模式发生强耦合效应，会出现模式劈裂的现象。通过调节本发明的超表面结构的尺寸和分子激子的响应参数实现劈裂模式辐射损耗和非辐射损耗的匹配，达到严格耦合区域，实现对杂化结构劈裂的两个模式的圆二色性增强和调控。本发明在圆二色性谱中能够清晰地分辨出两个圆二色
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114839703 A
(43)申请公布日 2022.08.02
(21)申请号 202210410992.X G01N 21/19 (2006.01)
(22)申请日 2022.04.
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