预测刻蚀开口面积及刻蚀掩膜厚度和刻蚀深度模型的方法.pdfVIP

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2023-05-18 发布于北京
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预测刻蚀开口面积及刻蚀掩膜厚度和刻蚀深度模型的方法.pdf

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本发明公开了一种预测刻蚀开口面积及刻蚀掩膜厚度和刻蚀深度模型的方法，采用不同掩膜工艺得到不同掩膜厚度；保证刻蚀开口面积相同，采用相同刻蚀工艺刻蚀不同掩膜厚度并量测刻蚀深度；建立刻蚀掩膜厚度和刻蚀深度的模型；采用同一掩膜工艺得到同一掩膜厚度；保证刻蚀掩膜厚度相同，采用相同刻蚀工艺刻蚀掩膜掩蔽之外的不同刻蚀开口面积并量测刻蚀深度；建立刻蚀开口面积比和刻蚀深度的模型；根据刻蚀深度和刻蚀掩膜厚度的关系、刻蚀深度和刻蚀开口面积的关系，建立刻蚀掩膜厚度及刻蚀开口面积和刻蚀深度的模型。本发明用以预测不同刻蚀开

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114861440 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210498782.0 (22)申请日 2022.05.09 (71)申请人浙江大学杭州国际科创中心地址 3