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本发明公开了一种提高真空度稳定性的真空管道系统及操作方法;在半导体晶圆、液晶面板等电子生产企业的生产过程,对于工艺真空的使用场景中,在厂房洁净室内按照长边设置2个工艺真空管道环网,分别为工艺真空管道环网A和工艺真空管道环网B,在2个工艺真空管道环网中间的两端位置分别设置旁通电动阀A及旁通电动阀B,当工艺真空管道环网远端上的真空表实时侦测到其中一个工艺真空管道环网真空度不够时,自动打开旁通电动阀A及旁通电动阀B,从而通过互补和主管缓冲的方式稳定工艺使用点真空度。该操作方法是在厂房洁净室内设置2个工
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114838295 A
(43)申请公布日 2022.08.02
(21)申请号 202210696580.7
(22)申请日 2022.06.20
(71)申请人 信息产业电子第十一设计研究院科
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