用于双室磁控镀膜机的前处理室.pdfVIP

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2023-05-18 发布于四川
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用于双室磁控镀膜机的前处理室.pdf

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本发明公开一种用于双室磁控镀膜机的前处理室，用于双室磁控镀膜机的前处理室包括呈矩形的前处理仓，所述前处理仓具有用于容置承载有工件的承载架的处理腔室，所述前处理室能够与镀膜室连通，在所述处理腔室的内部设有四个加热组件，四个所述加热组件分设在所述处理腔室的四个角部。本发明提供的用于双室磁控镀膜机的前处理室有效提高了工件的镀膜效率及镀膜效果。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112458424 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 202011236500.7 (22)申请日 2020.11.09 (71)申请人湘潭宏大真空技术股份有限公司