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本发明公开一种干涉夹角连续可调的曝光装置,其包括用于发出两束S偏振光的激光发射光路,干涉夹角调节光路以及用于放置样平台的直线导轨,所述样平台可沿所述直线导轨移动,所述干涉夹角调节光路包括设置在所述直线导轨一侧并依次排列的第一导光镜、第一点光源、第一准直镜、第一角度可调节反射镜,以及对称设置在所述直线导轨另一侧并依次排列的第二导光镜、第二点光源、第二准直镜、第二角度可调节反射镜,所述第一角度可调节反射镜和第二角度可调节反射镜将所述两束S偏振光分别反射到所述样平台上。本发明通过调节所述第一角度可调反
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114815523 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210708630.9
(22)申请日 2022.06.22
(71)申请人 杭州拓致光电科技有限公司
地址 3
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