一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置.pdfVIP

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2023-05-18 发布于北京
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一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置.pdf

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本发明公开一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，包括本体，本体安装于进气道内部，本体包括发生器，发生器设有三角形斜坡，三角形斜坡上设有射流孔，发生器内设有射流激励器，射流激励器与射流孔连通，射流激励器内安装有电源机构。本发明综合了等离子体合成射流激励器与涡流发生器的优点，进一步提高了主动流动控制效果，解决了进气道内部旋流畸变控制难度大的问题，显著提高进气道出口流场品质，同时能够适应不同工况，控制效果好，能够产生进气道出口截面最大的总压恢复，具有良好的工程应用前景。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114856814 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210541215.9 (22)申请日 2022.05.17 (71)申请人中国人民解放军海军工程大学地址