一种多孔MoO3单晶材料及其制备方法和应用.pdfVIP

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2023-05-19 发布于北京
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一种多孔MoO3单晶材料及其制备方法和应用.pdf

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本申请公开了一种多孔MoO3单晶材料及其制备方法和应用，所述多孔MoO3单晶材料中含有纳米孔道；所述纳米孔道为10nm～50nm。该材料具有首次报道的纳米孔道结构以及大尺寸(010)面MoO3纳米孔单晶结构；该制备方法利用金属钼酸盐与MoN之间通过固相扩散氮化转成MoN多孔单晶，以MoN多孔单晶为衬底，最终氧化多孔MoN生长出多孔MoO3单晶，其余产物完全挥发，产物纯度高；并且该方法操作简单、重复性好、价格低廉。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114892271 A (43)申请公布日 2022.08.12 (21)申请号 202210449720.0 (22)申请日 2022.04.26 (71