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一种溅射沉积设备,包括:布置为支撑基底的基底支撑组件;布置为支撑至少一个溅射靶的靶支撑组件,该溅射靶用于靶材料到基底上的溅射沉积;布置成为所述溅射沉积提供等离子体的等离子体生成装置;以及布置为容纳在所述溅射沉积之后具有沉积的靶材料的基底的盒。盒可从溅射沉积设备中移出。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114902371 A
(43)申请公布日 2022.08.12
(21)申请号 202080090902.2 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所
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