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一种半导体结构及其形成方法,半导体结构包括:沟道结构层;源漏掺杂层,沿沟道层长度的方向位于沟道结构层的两侧,源漏掺杂层与相邻沟道层,或源漏掺杂层与基底、以及与基底相邻的沟道层围成通槽;与通槽相连通的栅极开口,位于源漏掺杂层之间且横跨沟道结构层;填充于栅极开口和通槽内的栅极结构,包括包围沟道层的栅功能层、以及位于栅功能层上且填充栅极开口和通槽的栅电极层,栅功能层暴露出通槽和栅极开口的侧壁,栅电极层与栅极开口和通槽的侧壁相接触。本发明实施例栅功能层暴露出栅极开口和通槽的侧壁,能够为栅电极层提供更大的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114883408 A
(43)申请公布日 2022.08.09
(21)申请号 202110162406.X
(22)申请日 2021.02.05
(71)申请人 北方集成电路技术创新中心(北京)
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