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本发明公开了一种基于全息零级和超表面几何相位的灰度纳米印刷设计方法,灰度纳米印刷术的信息通道为全息零级,灰度图像信息被编码进超表面上纳米砖阵列的转角排布中;超表面由两层基底、一层反射式纳米砖阵列构成;硅基底上方为二氧化硅基底,二氧化硅基底上排布有周期性排列的硅纳米砖阵列单元,各纳米砖单元大小相同,转角各异;本发明所提出的基于全息零级和超表面几何相位的灰度纳米印刷设计方法,与传统的灰度纳米印刷术相比,几何相位设计模式更加灵活,填补了灰度纳米印刷术在相位领域的空白,其优势在于设计算法简单,集成度极高
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114895543 A
(43)申请公布日 2022.08.12
(21)申请号 202210560984.3
(22)申请日 2022.05.23
(71)申请人 武汉大学
地址 430072 湖
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