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多层膜结构镀层及其制备方法、制备装置.pdf

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本发明涉及多层膜结构镀层及其制备方法、制备装置,属于材料科学中的电镀技术领域,该多层膜结构镀层是在电镀工艺过程中通过周期性间歇引入打气搅拌于电镀液中沉积合金镀层,通过打气或不打气条件改变电镀液的搅拌速率,获得具有一定层间特性差异的子层,制备成分呈周期层状的多层膜结构镀层。本发明通过在单槽电镀过程中控制打气搅拌装置的开启或关闭,即能形成一种或多种合金元素的成分含量呈周期变化的多层膜结构镀层,不仅电镀液性能稳定,使单层膜镀层具有更优的性能,还无需新增镀槽和其他处理工艺,实施较为方便,适于工业化生产。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114875462 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210661390.1 C25D 3/56 (2006.01) (22)申请日 2022.06.1

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