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本申请公开了一种薄膜沉积装置及其布气机构,布气机构包括沿第一方向依次设置的喷淋背板、均气板、匀流板和喷淋板;其中,喷淋背板和喷淋板共同形成喷淋头,均气板和匀流板位于喷淋头内,匀流板和喷淋背板之间形成第一均气腔,匀流板和喷淋板之间形成第二均气腔,均气板设于第一均气腔内;喷淋背板在面对均气板的位置设有第一通孔;均气板设有贯通的均气孔;匀流板设有贯通的匀流孔,匀流孔用于使工艺气体从第一均气腔进入第二均气腔;喷淋板设有贯通的喷淋孔。本申请提供的薄膜沉积装置及其布气机构,能够提高布气均匀性,从而提高薄膜沉
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114875387 A
(43)申请公布日 2022.08.09
(21)申请号 202210325415.0
(22)申请日 2022.03.29
(71)申请人 江苏微导纳米科技股份有限公司
地址
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