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本发明公开了一种高质量抗辐照钨合金涂层的制备方法,所述方法包括以下步骤:利用表面机械纳米合金化的方法先制备出一层纳米结构钨合金涂层,随后利用熔渗法在一定条件下渗入一定量的金属熔液,使其填充涂层内部裂纹、孔洞等缺陷,从而形成一层高质量的钨合金涂层。其中,第一步可得到晶粒尺寸为纳米级、与基体结合优良的钨合金纳米涂层;第二步则使涂层质量提高,缓解了因孔隙、裂纹以及其它宏观缺陷导致的辐照损伤。另外,该方法工艺简单、效率高,能够在短时间内制备出厚度为100μm以上的钨合金涂层。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114921784 A
(43)申请公布日 2022.08.19
(21)申请号 202210589685.2
(22)申请日 2022.05.26
(71)申请人 合肥工业大学
地址 230000
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