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- 2023-05-23 发布于四川
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本申请公开了一种激光补偿光学系统和准分子激光退火装置。激光补偿光学系统包括:激光源、分束器和回转组件,激光源向分束器发射激光光束。分束器将激光源发射的激光光束分为沿不同路径传输的第一光束和第二光束。回转组件将第二光束回转并反射至分束器以使第一光束与回转后的第二光束合束输出。本申请实施方式的激光补偿光学系统将激光源发射的原始激光光束分为第一光束和第二光束,通过将第二光束回转后与第一光束合束输出,从而改善原始激光光束的非对称性,提高输出光束的稳定性,有利于在低温多晶硅薄膜制造过程中提高多晶硅薄膜的质
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112164969 A
(43)申请公布日 2021.01.01
(21)申请号 202011050289.X
(22)申请日 2020.09.29
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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