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- 2023-05-23 发布于四川
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本发明为涉及纳米集成光学技术领域的一种基于面外格点共振的等离激元折射率传感器。其特征是:本发明整体为在介质基板上生长周期排列的格点阵列,该阵列由金属‑介质‑基底(从上到下)组成。上述光学器件在对称环境中性能优越,在共振峰处拥有及窄的线宽。该特点可用来实现窄带滤波及高灵敏度生物传感等功能,具有巨大的应用价值。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112161954 A
(43)申请公布日 2021.01.01
(21)申请号 202010958794.8
(22)申请日 2020.09.14
(71)申请人 桂林电子科技大学
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