- 0
- 0
- 约15.19万字
- 约 113页
- 2023-05-23 发布于四川
- 举报
提供一种运算性能高的半导体装置。本发明的一个方式是一种利用跨导线性原理的半导体装置,该半导体装置包括在沟道形成区域中包含金属氧化物的第一至第十晶体管及第一电容。第一晶体管的第一端子与第二晶体管的第一端子电连接,第三晶体管的第一端子通过第一电容与第二晶体管的第二端子及第二晶体管的栅极电连接。第二晶体管的第二端子与第四及第七晶体管的第一端子及第五及第八晶体管的栅极电连接。第七晶体管的栅极与第五及第六晶体管的第一端子电连接,第十晶体管的栅极与第八及第九晶体管的第一端子电连接。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116134442 A
(43)申请公布日 2023.05.16
(21)申请号 202180058948.0 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公
您可能关注的文档
最近下载
- 人教版五年级上册数学七彩练霸课课练,为孩子收藏.pdf VIP
- KingSCADA3.7初级培训教材.pdf VIP
- 《景观规划设计》课件——项目一:乡村景观规划基础.pptx
- GB/T 7323-2019 极压锂基润滑脂.pdf
- 城市交通专项整治—高架桥涂装工程油漆涂装专项施工方案.doc VIP
- 2026年及未来5年中国酒糟资源化行业市场深度分析及投资策略咨询报告.docx
- SCMP供应链管理专家考试真题及答案解析.docx VIP
- 2011年浙江工业大学863工程光学考研试题.pdf VIP
- TCSICE 045-2025 船用柴油-液化天然气双燃料发动机燃料控制系统技术条件.pdf VIP
- 2025年中国购物者报告:中国快消品市场的机会和挑战.pdf VIP
原创力文档

文档评论(0)