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2023-05-24 发布于四川
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密封结构、真空处理装置和密封方法.pdf

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本发明提供密封结构、真空处理装置和密封方法。在真空气氛下进行基片的处理的处理腔室所连接的气体供给配管的密封结构，其包括：第1配管部件，其构成上述气体供给配管，具有形成有与处理腔室连通的开口部的端面；第2配管部件，其构成上述气体供给配管，具有被配置在与上述第1配管部件的端面对置的位置的对置面；弹性体制的密封部件，其以包围上述开口部的方式设置在上述第1配管部件的端面与上述第2配管部件的对置面之间；和片状的多孔部件，其以包围上述密封部件的周围的方式设置在上述第1配管部件的端面与上述第2配管部件的对置面

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112178332 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 202010578342.7 (22)申请日 2020.06.23 (30)优先权数据 2019-1246

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