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标记的制造方法.pdfVIP

标记的制造方法.pdf

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    本发明公开一种标记的制造方法，包括以下步骤。提供基底。基底包括元件区与标记区。在基底上形成介电层。在元件区的介电层中形成双重金属镶嵌开口。双重金属镶嵌开口包括彼此相连的第一开口与第二开口。第二开口的宽度大于第一开口的宽度。在标记区的介电层中形成第三开口。第三开口与第一开口由同一道制作工艺同时形成。在双重金属镶嵌开口的表面上与第三开口的表面上形成阻障材料层。阻障材料层封住第三开口，而在第三开口中形成孔洞。在阻障材料层上形成金属材料层。移除双重金属镶嵌开口外部与第三开口外部的金属材料层与阻障材料层。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112185934 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 20191

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