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提供了用于对导电层结构进行蚀刻以形成导体迹线的蚀刻组合物,所述蚀刻组合物包含:蚀刻剂;包含聚合物化合物的蚀刻添加剂;包含多羟基化合物的有机物质;以及可选地包含溶剂。另外,提供了用于对导电层结构进行蚀刻的方法、导体迹线和部件承载件。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112176345 A
(43)申请公布日
2021.01.05
(21)申请号 20201
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