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一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法摘要一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法,首先利用涂胶装置一、涂胶装置二将压印胶苄基硫醇钯均匀涂抹到衬底一、衬底二表面,然后压印装置一、压印装置二分别对衬底一、衬底二进行压印得到带有纵向光栅结构的衬底一、带有横向光栅结构的衬底二,对衬底一进行高温处理一小时使苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅,然后在压印装置三的作用下横向光栅脱离衬底二,并粘附到纵向光栅上形成叠堆结构,再进行一小时的高温处理使横向苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅,得到超疏水微结构。本发明通
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112213915 A
(43)申请公布日
2021.01.12
(21)申请号 20191
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