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本文的实施例能够有利地在数字直写式光刻系统中同时处理多个基板。在一个实施例中,一种处理多个基板的方法包括:将多个基板定位在处理系统的基板载体上,将基板载体定位在多个光学模块下面,独立地对多个基板中的每一者进行水平校准,判定多个基板中的每一者的偏移信息,根据多个基板中每一者的偏移信息产生图案化指令,并使用多个光学模块对多个基板中的每一者进行图案化。处理系统包括:基座、设置在基座上的运动台、设置在运动台上的基板载体、设置在基座表面上方并与基座表面分离的桥接器、以及设置在桥接器上的多个光学模块。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112204707 A
(43)申请公布日 2021.01.08
(21)申请号 201980035940.5 (74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理
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