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提供一种能够在短时间内且自动地确定构成光学式膜厚测定装置的工作方案的最佳方案参数的方法、装置及系统。本方法将多个参数集保存在存储装置内,该多个参数集分别包含构成工作方案的多个方案参数,使用多个参数集和存储在数据服务器内的来自被研磨的基板的反射光的参照光谱的数据来执行伴随着研磨时间的经过的膜厚变化的模拟,将评价膜厚变化的方式的至少一个指标值输入评价计算式,计算对于多个参数集的多个综合评价值,基于多个综合评价值从多个参数集中选择最佳的一个参数集。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112223104 A
(43)申请公布日 2021.01.15
(21)申请号 202010586262.6 B24B 37/34 (2012.01)
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