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数学校正法在X荧光光谱仪中的应用研究和实践经验分享 目录 TOC \o 1-9 \h \z \u 目录 1 正文 2 文1：数学校正法在X荧光光谱仪中的应用 2 一XRF的定量分析基础 2 1）X光源的强度 3 2）入射角，出射角 3 3）X光源对A元素激发产生的一次荧光 3 4）B元素和C元素对A元素激发产生的二次荧光 3 6）A元素的总X光荧光光强度射出试样过程中被试样的吸收 3 二克服或校正基体效应的方法 3 三基体效应的数学校正 4 文2：多波长单因变量偏最小二回归校正法在他莫昔芬高效液相定量分析中的应用 7 1 原理 9 2 仪器 10 3 药品与试剂 10 4 方法和结果 11 4.1 标准溶液的制备 11 4.2 色谱条件 11 4.3 标准曲线的绘制 11 5 标准方程验证 12 5.1 交叉验证 12 5.2 验证集预测法验证 12 6 结果与讨论 13 参考文摘引言： 13 原创性声明（模板） 14 正文 数学校正法在X荧光光谱仪中的应用研究和实践经验分享 文1：数学校正法在X荧光光谱仪中的应用 一XRF的定量分析基础 在X荧光光谱仪分析待测样品的过程中，我们首先要知道：好的谱仪测量精度好的分析准确度。定量分析的先决条件：1）试样平整，表面光滑、2）对X光为无线厚、3）谱线测得的净强度指经，谱线重叠和计数结束时间，校正后的强度 基体效应：测定X射线的强度时，受到共存的其他元素的影响。这种影响通常叫做元素间效应或叫做基体。例如某一试样中含有A，B，C三个元素，而且：B元素的X光荧光能激发A元素，C元素的X光荧光光能激发B元素。 试样中A元素的X光荧光光强度就取决于： 1）X光源的强度 2）入射角，出射角 3）X光源对A元素激发产生的一次荧光 4）B元素和C元素对A元素激发产生的二次荧光 5）C元素对B元素激发而增强B元素的部分再对A元素激发所产生的三次荧光 6）A元素的总X光荧光光强度射出试样过程中被试样的吸收 二克服或校正基体效应的方法 忽略基体效应有以下几种方法： 2.1基体匹配法：使用与未知样基体组成相似的标准样品，常常在较窄的浓度范围内或低浓度时，强度与浓度成线性关系。 2.2薄试样法：当试样厚度仅为几百或几千时，其基体效应可予忽略，此时分析方法变成结对法，但荧光强度也大大降低。 2.3减少基体效应：使用稀释剂将未知样予以高倍稀释和添加重吸收剂，使经处理后的试样基体处于较为恒定的状态。（如：熔融制样法，通过溶剂进行稀释） 2.4补偿基体效应：内标法，在试样中加入已知量的内标元素，该内标元素X光荧光特性应与分析元素相似。 2.5标准加入法：在未知样中加入一定量的待测元素，比较加入前后试样中待测元素强度的变化，对其基体效应进行校正。常用于复杂试样中单个元素的测定，一般测定浓度1%，个别可至百分之几。对液体 试样和熔融试样体系，比较适用，如与添加重吸收剂相结合，则可扩大测定度范围。 2.6双重稀释法：不是用减少基体效应的方法，而是测量二个已知的不同稀释比时试样的强度，以进行基体效应补偿的方法。原则上对混合物，溶液或固溶体中有足够浓度的任一元素均可测定。主要用于中 等或高浓度组分的分析。 2.7散射比法：其原理是试样所产生的特征X射线和试样对原级谱的散射线，在波长相近处的行为相近。即它们的强度之比与试样的组成无关。X光管靶材的相干或非相干散射线，试样对原级X光连续谱的散射背景但所选散射线的波长与待测元素特征线波长之间不可以有主要元素的吸收限（包括待测元素），同时，所选的散射线需要有足够的强度。 三基体效应的数学校正 鉴于X光特征谱线产生于原子内层电子的跃迁，基本上不受化学态的影响。因此，与紫外发射光谱相比，其元素间的吸收—增强效应比较容易加以计算和进行校正。 上述各种忽略，减少或补偿基体效应的方法，虽有一定的应用，但范围有一定的限制，或者不能完全校正基体效应，因此数学校正法是最有效和全面的基体校正方法。 数学校正法：就是校正基体效应的方法。 A—B—C三成分系统样品中A成分的标准曲线不能一概而定，是随着基体因数【WB/（WB+WC）】的值得不同，在上述两条曲线之间移动（C为增强曲线B为吸收曲线）。基体C的曲线为二元系的标准曲线。即A—C二元系样品的X射线分析值“XA”与化学分析值“WA”一致，那么 如果在A—B—C三元系样品中，C的成分由B取代一部分，那么强度一定会引起变化。即测定强度减少到的时候，设按上述基体“C”的标准曲线求得的分析值为 则上述公式关系被破坏得到下列公式 在此，因为X射线强度的变化与B成分的含量成正比，所以如设为常数，则下式成立： 对未知样品的