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实施方式涉及多射束描绘方法以及多射束描绘装置。实施方式的多射束描绘方法，对在载置于在规定方向上行进的工作台上的基板上定义的每个像素照射所述多射束的各射束来形成图案。该多射束描绘方法，至少根据在所述规定方向上将所述多射束的阵列分割而成的多个子阵列中的每个子阵列的各射束的位置偏移量，取得每个子阵列的图案的位置校正量，计算基于位置校正量将针对每个所述子阵列描绘的所述图案的位置移位所用的、向所述各像素照射的所述各射束的照射量，控制为计算出的所述照射量，使用2个以上的所述子阵列各自的至少一部分进行多重描绘
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112286004 A
(43)申请公布日 2021.01.29
(21)申请号 202010722441.8
(22)申请日 2020.07.24
(30)优先权数据
2019-1370
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