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本发明涉及基板处理装置、基板支撑件以及半导体装置的制造方法。本发明在提高在基板上形成的膜的厚度均匀性的同时,能抑制对基板和在基板上形成的膜的金属污染。本发明提供一种基板处理装置,具备:基板支撑件,该基板支撑件具有由金属构成的支柱和设置于支柱且多段支撑多个基板的多个支撑部,容纳基板支撑件支撑的多个基板的处理室和对容纳在处理室内的多个基板进行加热的加热部,多个支撑部的至少与多个基板接触的接触部由金属氧化物或非金属物的至少任一种构成。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112309927 A
(43)申请公布日 2021.02.02
(21)申请号 202010763399.4
(22)申请日 2020.07.31
(30)优先权数据
2019-1406
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