原创力文档- 1、本文档共14页，其中可免费阅读13页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
实施方式涉及一种等离子体处理装置及等离子体处理方法。实施方式的等离子体处理装置具备配置在处理室的上部电极、载置台、高频供电部、虚设环、及冷却部。载置台在处理室内与上部电极对向配置，具有下部电极，且载置晶片。高频供电部对下部电极与上部电极之间供给高频电力。虚设环为包围载置在载置台的晶片的环状周缘部的环状部件。在虚设环与晶片的交界区域中，从自晶片离开的方向侧由冷却部将虚设环冷却。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112331545 A
(43)申请公布日
2021.02.05
(21)申请号 20201
文档评论（0）