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本发明公开了一种动态模拟半导体生产系统废气处理的方法及装置,方法包括如下步骤:采集目标半导体生产工艺,以及半导体生产系统中的设备布局信息;确定生产目标半导体的目标机台组、目标机台和生产物流路径;获取第一生产节拍和第二生产节拍,结合目标半导体的生产物流路径,给出目标机台及目标机台组所产生的废气数据;获取目标机台组的废气处理信息和第三生产节拍,结合时间控制指令,给出针对半导体生产系统废气处理的动态模拟。将生产设备和腔体进程、生产节拍等参数囊括,实现了半导体生产系统废气处理动态模拟,为设备选型、管路设
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115826548 A
(43)申请公布日 2023.03.21
(21)申请号 202310152028.6
(22)申请日 2023.02.22
(71)申请人 中国电子工程设计院有限公司
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