晶圆清洗装置.pdfVIP

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本发明公开了晶圆清洗装置，其包括：壳体；支撑组件，其位于所述壳体中，用于可旋转地支撑沿竖直方向设置的待清洗的晶圆；清洗刷，其平行、间隔设置并绕其轴线滚动；护板，其设置于所述清洗刷的上侧，以阻挡清洗刷滚动产生的流体溅落至晶圆表面。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112371592 B (45)授权公告日 2022.07.15 (21)申请号 202011153671.3 KR 10-2009-0057797 A,2009.06.08 (22)申

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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