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钌硬掩膜方法.pdfVIP

钌硬掩膜方法.pdf

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    提供了一种方法，其中使用包含钌的硬掩膜材料。钌提供了一种硬掩膜材料，该材料对典型地用于处理衬底图案化层的许多等离子体化学过程具有抗蚀刻性，这些层包括例如像氮化物、氧化物、抗反射涂层(ARC)材料等的层。此外，可以通过不去除氮化物、氧化物、ARC材料等的等离子体化学过程去除钌。例如，可以通过使用氧(O2)等离子体容易地去除钌。此外，钌可以沉积为在氧化物和氮化物上的10nm级平坦薄膜，并且可以沉积为平坦层。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112385015 A (43)申请公布日 2021.02.19 (21)申请号 201980046209.2 彼得 ·文特泽克　 (22)申请日 2019.0

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