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- 2023-05-28 发布于四川
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本发明提供了一种新型宽带增透膜及其制备方法，该增透膜包括基底层，所述基底层上由内向外依次包括第一层Cu膜层和第二层MgF2膜层，其物理厚度依次为2.0‑3.5nm和70.0‑80.0nm。本发明通过引入金属层来降低整个膜层厚度，减少膜层数，提高制备的生产效率；并且改善增透膜的光谱特性，使光谱波纹减少，从而提高薄膜的重复性和稳定性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112376021 B
(45)授权公告日 2023.03.31
(21)申请号 202011266720.4 C23C 14/18 (2006.01)
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