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本公开涉及色转换技术领域,尤其涉及一种LED芯片结构的制作方法及LED芯片结构,方法包括以下步骤:在芯片本体上涂覆二氧化硅材料,使其完全覆盖芯片本体的表面,以在芯片本体上形成二氧化硅覆盖层;对二氧化硅覆盖层的对应芯片本体内发光单元的位置刻蚀至使芯片本体的部分表面显露,以形成隔离矩阵槽;向二氧化硅覆盖层上涂覆色转换材料,直至完全填充隔离矩阵槽,以形成色转换层,本公开使二氧化硅覆盖层和芯片本体的氮化镓之间形成材料隔离分界线,保证了刻蚀过程中的刻蚀终点明确,从而避免了损伤到芯片本体内部的发光单元,保护
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115832149 A
(43)申请公布日 2023.03.21
(21)申请号 202310112867.5
(22)申请日 2023.02.15
(71)申请人 季华实验室
地址 528200
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